Двухлучевой микроскоп Helios Nanolab

ID:

15537

Артикул:

Цена по-запросу

Описание
Характеристики

В двухлучевой системе Helios реализованы новейшие достижения в области автоэмиссионных SEM (FESEM), фокусированного ионного пучка (FIB) и совместного использования этих технологий. Helios NanoLab специально разрабатывался как инструмент, позволяющий максимально широко использовать возможности сверхвысокого разрешения (XHR) при выполнении 2D- и 3D-анализа, создании нанопрототипов и подготовке образцов высочайшего качества. Технология Elstar™ FESEM обеспечивает наилучшую детализацию в нанометровом диапазоне в самых разных рабочих режимах: точность значительно ниже 1 нм достигается как при 30 кВ в режиме STEM для получения информации о структуре, так и при 500 В для беззарядного получения детальных данных о поверхности. Предусмотрена тройная система детектирования внутри колонны и режим иммерсии, которые могут использоваться одновременно для формирования изображений SE и BSE (вторичных и обратноотражённых электронов) в зависимости от угла и энергии пучка.

Отличительные особенности:

Электронная пушка Elstar, в том числе:
- Термополевой эмиттер Шоттки
- Возможность переключения между режимами без нарушения вакуума
- Технология UC (монохроматор)
Диапазон энергии пучка у поверхности образца 20 В – 30 кВ
60° объектив с двумя линзами с защитой полюсного наконечника
Нагреваемые апертуры объектива
Электростатическое сканирование
Технология линзы с постоянной мощностью ConstantPower™
Торможение пучка с подачей потенциала на предметный столик от 0 В до –4 кВ
Интегрированная функция быстрого гашения (бланкера) пучка*
Ионная колонна Tomahawk
Превосходные характеристики при работе на высоком токе с макс. током пучка до 65 нА
Диапазон ускоряющего напряжения 500 В – 30 кВ
Двухступенчатая дифференциальная откачка
Времяпролётная коррекция (TOF)
15 апертур
Срок службы источника
- Срок службы источника электронов: 12 месяцев
- Срок службы источника ионов: гарантия 1000 часов
Разрешение ионного пучка в точке пересечения
- 4,0 нм при 30 кВ с использованием предпочтительного статистического метода
- 2,5 нм при 30 кВ с использованием
Максимальная ширина горизонтального поля
- Электронный пучок: 2,3 мм в точке совпадения пучка (рабочее расстояние 4 мм)
- Ионный пучок: 0,9 мм при 8 кВ в точке совпадения пучка
Ток зонда
- Электронный пучок: от 0,8 пA до 22 нА (CX); от 0,8 пA до 100 нА (UC)
- Ионный пучок: 0,1 пA – 65 нA (апертурная полоса с 15 положениями)

Характеристики электронной пушки	Для UC на оптимальной рабочей дистанции - 0.6 нм at 30 кВ STEM - 0.7 нм at 1 кВ - 1.0 нм at 500В (ICD) · В точке пересечения: - 0.6 нм at 15 кВ - 1.2 нм at 1 кВ Для CX на оптимальной рабочей дистанции - 0.7 нм at 30 кВ STEM - 0.8 нм at 15 кВ - 1.4 нм at 1 кВ · В точке пересечения: - 0.8 нм at 15 кВ - 2.5 нм at 1 кВ
Предметный столик	Вцентрический гониометрический высокоточный моторизованный по 5 осям предметный столик Перемещение в плоскости XY: 110x110 мм (150x150 UC) Воспроизводимость результатов: Моторизованное перемещение по оси Z: 65 мм (10 мм UC) Поворот: n x 360° Наклон: -15° / +75° (-10° … +60° UC) Максимальная высота образца: Расстояние 85 мм до точки Вцентрика (55 мм UC) Максимальный вес образца: 500 г при любом положении предметного столика (до 2 кг при наклоне 0°) Максимальный размер образца: Ø150 мм при полном вращении (для образцов большего размера вращение ограничено)
Рабочая камера	• Точка схождения ионного и электронного пучков на аналитическом рабочем расстоянии (4 мм SEM) • Угол между колоннами ионов и электронов: 52° • 21 порт • Размер по горизонтали: 379 мм
Детекторы	• Внутрилинзовый SE/BSE детектор Elstar (TLD-SE, TLD-BSE) • SE-детектор Elstar в колонне (ICD) • ВSE-детектор Elstar в колонне (MD) • Детектор Венхарда — Торнли SE (ETD) • ИК-камера для контроля изображения образца/колонны • Встроенная в камеру Nav-Cam+™ * • Высокоэффективный детектор конверсии ионов и электронов (ICE) для вторичных ионов (SI) и электронов (SE). • Выдвижной низковольтный высококонтрастный твердотельный детектор обратноотражённых электронов (DBS) • Выдвижной STEM детектор с сегментами BF/DF/HAADF* • Интегрированные измерения тока пучка
Вакуумная система	• 1 x 210 л/с турбомолекулярный насос • 1 × PVP (сухой насос) • 4 × IGP (всего для электронной колонны и ионной колонны). • Вакуум в камере:
Дополнительные аналитические возможности	• Анализ: EDS, EBSD, WDS, катодолюминесценция и спектроскопия • QuickLoader™: загрузочный шлюз для быстрого переноса образца • Модуль Electron Beam Lithography: комплекты компаний Raith, Nabity или других поставщиков • Решение для работы при низких температурах для двухлучевой технологии DualBeam - Эксклюзивная технология компании FEI CryoMAT для исследования материалов при низких температурах - Решения от внешних поставщиков • GIS (система инжекции газа) – решения: - Простая GIS: до 5 независимых устройств для расширенного травления или осаждения - MultiChem™: до 6 устройств инжекции в одном блоке для усовершенствованного травления или осаждения • GIS – опции химического воздействия** - Осаждение платины - Осаждение вольфрама - Осаждение углерода - Осаждение изоляционного материала II - Осаждение золота - Расширенная функция травления Etch™ (иод, запатентовано) - Расширенная функция травления изоляционного материала (XeF2) - Формирование изображения по технологии Etch™ (запатентовано) - Селективное травление углерода (запатентовано) - Пустые тигли для согласованных с FEI материалов, поставляемых пользователем - По заказу возможны другие средства химического воздействия с помощью электронного пучка
Управление системой	• 64-битный графический интерфейс пользователя с Windows 7, клавиатура, оптическая мышь • До пяти «живых» изображений, независимо показывающих пучки и/или сигнал с разных детекторов. Микширование цветовых сигналов • Два 24-дюймовых широкоэкранных монитора (1920×1200 пикселей) для отображения системного графического пользовательского интерфейса и полноэкранного изображения • Для управления микроскопом и вспомогательным ПК достаточно одной клавиатуры и мыши • Джойстик* • Мультифункциональная панель управления* • Дистанционное управление*
Получение изображений	• Время выполнения операции 0,025–25 000 мкс/пиксель • До 6144 x 4096 пикселей • Тип файла: TIFF (8, 16, 24-битный), BMP или JPEG • Однокадровое изображение или изображение в четырёх квадрантах • SmartSCAN™ (256 кадров усреднения или накопления, линейного интегрирования и усреднения, чересстрочной развёртки) и DCFI (интегрирование кадра с компенсацией смещения)
Доступные программные функции	Пакет AutoFIB™ для автоматизации работы двулучевой системы DualBeam на базе макросов и скриптов • iFast для повышения уровня автоматизации двулучевой системы DualBeam • MAPS™ для автоматического получения больших изображений • Мастер AutoTEM™ для автоматизированной подготовки образцов и поперечного сечения • NanoBuilder™ — усовершенствованное приложение на основе (GDSII) решений CAD для нанопрототипирования с помощью FIB и лучевого осаждения сложных структур • Auto Slice & View™: автоматизированная ионная резка и просмотр для сбора серий срезов для трёхмерной реконструкции • EBS3™: автоматизированная ионная резка и получение EBSD-карт для сбора серий текстурных или ориентационных карт для трёхмерной реконструкции • EDS3™: автоматизированная ионная резка и получение EDS-данных для сбора серий химических карт для трёхмерной реконструкции • Программное обеспечение трёхмерной реконструкции • Навигация Knights Technology CAD • Программное обеспечение доступа к веб-архиву д
Системные опции	Источник ионов - плазменная пушка ПФИП -- Используются ионы Xe+ , время работы источника >4000 часов -- Сила тока плазменного пучка от 1.5пА да 1.3 мА Напряжение: -- 2 кВ - 30 кВ ПФИП • Звукоизолирующий корпус FEI • Встроенная система плазменной очистки • FEI CryoCleaner* • Манипуляторы: - Запатентованная система локального подъёма образца FEI EasyLift™ + Hitachi In Situ (или другие манипуляторы) для подготовки тонких образцов - По заказу доступны другие манипуляторы • Нейтрализатор заряда пучка FIB
Требования по установке	Частота 50 или 60 Гц +/- 1% • Потребляемая мощность: • Сопротивление заземления: • Окружающая среда: - температура 20 °C ± 3 °C - относительная влажность менее 80%, 20 °C - магнитные поля рассеяния по переменному току: асинхронные 17 мс (сеть питания 60 Гц) • Рекомендуемая ширина x высота дверного проёма: 0,9 м × 2,0 м. • Вес: консоль колонны 950 кг • Сухой азот • Сжатый воздух: 4–6 бар — чистый, сухой, безмасляный • Охладитель системы • Уровень шума: требуется обследование места установки, поскольку должен учитываться акустический спектр • Виброизоляционный стол поставляется по дополнительному заказу